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清溢光電:公司已成功實現(xiàn)150nm工藝節(jié)點掩膜版的小規(guī)模量產(chǎn)

每日經(jīng)濟新聞 2025-12-05 15:37:45

每經(jīng)AI快訊,12月5日,清溢光電(688138.SH)在業(yè)績說明會上表示,公司佛山生產(chǎn)基地總投資35億元。半導體芯片掩膜版技術(shù)方面,公司已成功實現(xiàn)150nm工藝節(jié)點掩膜版的小規(guī)模量產(chǎn),正在推進130nm-65nm的PSM和OPC工藝的掩膜版開發(fā)和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。公司半導體掩膜版業(yè)務的代表性客戶包括比亞迪半導體、芯聯(lián)集成等,根據(jù)客戶保密協(xié)議,部分客戶的信息不便透露。目前,半導體掩膜版的國產(chǎn)化率在10%左右,國產(chǎn)替代空間巨大。

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